Effect of deposition conditions on the structure and properties of CrAlN films prepared by pulsed DC reactive sputtering in FTS mode at high Al content

نویسندگانSara Khamseh, Masateru Nose, Tokimasa Kawabata, Atsushi Saiki, Kenji Matsuda, Kiyoshi Terayama, Susumu Ikeno
نشریهMaterials transactions
شماره صفحات0807220494-0807220494
نوع مقالهFull Paper
تاریخ انتشار2008/9/1
رتبه نشریهISI
نوع نشریهچاپی
کشور محل چاپایران

چکیده مقاله