Influence of total gas pressure on the microstructure and properties of CrAlN films deposited by a pulsed DC balanced magnetron sputtering system

نویسندگانS Khamseh, M Nose, T Kawabata, K Matsuda, S Ikeno
نشریهJournal of Alloys and Compounds
شماره صفحات389-391
شماره مجلد503
نوع مقالهFull Paper
تاریخ انتشار2010/8/6
رتبه نشریهISI
نوع نشریهچاپی
کشور محل چاپایران

چکیده مقاله